国产半导体光刻机技术新进展:上海微电子实现90nm量产突破

近期,国产半导体光刻机技术取得重大突破,上海微电子装备集团SMEE)宣布其自主研发的90nm节点光刻机已通过客户验证并进入量产阶段。这一进展标志着中国在高端芯片制造核心设备领域迈出关键一步,对产业链自 ...[查看全文]

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